阿斯麦(ASML)表示已经完成1纳米级EUV极紫外光刻机的设计工作知名光刻机制造商荷兰阿斯麦日前透露该公司与比利时半导体研究机构IMEC在3 nm及以下制程在微缩层面细节。 阿斯麦目前已经对3纳米、2纳米…2020年12月1日 10:0851.35W
